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集成电路布图设计专有权公告(2004年4月29日)

布图设计登记号:BS.035001577
布图设计申请日:2003年11月12日
公告日期:2004年04月29日
公告号:398
布图设计名称:IC卡智能燃气表控制器(CG-L-WYZ)
布图设计类别:
      结构:Bi-MOS             
      技术:DTL                
      功能:逻辑               
布图设计权利人:江阴中威智能设备有限公司
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省江阴市申港镇工业园区丰路297号
布图设计创作人:王永智、张煥明
布图设计创作完成日:2003年06月09日

布图设计登记号:BS.035001720
布图设计申请日:2003年11月28日
公告日期:2004年04月29日
公告号:399
布图设计名称:HIC101(BL74056)
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:逻辑               
布图设计权利人:上海贝岭股份有限公司
布图设计权利人国籍/省市:上海                         
布图设计权利人地址:上海宜山路810号
布图设计创作人:黄晖、忻雯
布图设计创作完成日:2003年04月01日
布图设计首次商业利用日:2003年05月01日

布图设计登记号:BS.035001828
布图设计申请日:2003年12月11日
公告日期:2004年04月29日
公告号:400
布图设计名称:BL74042
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:逻辑               
布图设计权利人:上海贝岭股份有限公司
布图设计权利人国籍/省市:上海                         
布图设计权利人地址:上海宜山路810号
布图设计创作人:黄晖、忻雯
布图设计创作完成日:2003年09月08日
布图设计首次商业利用日:2003年11月20日

布图设计登记号:BS.035001836
布图设计申请日:2003年12月11日
公告日期:2004年04月29日
公告号:401
布图设计名称:BL74022
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:逻辑               
布图设计权利人:上海贝岭股份有限公司
布图设计权利人国籍/省市:上海                         
布图设计权利人地址:上海宜山路810号
布图设计创作人:黄晖、忻雯
布图设计创作完成日:2003年09月22日
布图设计首次商业利用日:2003年10月10日

布图设计登记号:BS.035001933
布图设计申请日:2003年12月23日
公告日期:2004年04月29日
公告号:402
布图设计名称:BL1201可内部振铃的用户线路接口
布图设计类别:
      结构:Bi-MOS             
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:上海贝岭股份有限公司
布图设计权利人国籍/省市:上海                         
布图设计权利人地址:上海宜山路810号
布图设计创作人:李霄
布图设计创作完成日:2002年03月13日
布图设计首次商业利用日:2002年08月15日

布图设计登记号:BS.045000018
布图设计申请日:2004年01月08日
公告日期:2004年04月29日
公告号:403
布图设计名称:单相防窃电电能计量芯片(BL0951)
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:上海贝岭股份有限公司
布图设计权利人国籍/省市:上海                         
布图设计权利人地址:上海宜山路810号
布图设计创作人:李霄、田文斌
布图设计创作完成日:2002年08月10日
布图设计首次商业利用日:2003年01月01日

布图设计登记号:BS.04500014X
布图设计申请日:2004年01月16日
公告日期:2004年04月29日
公告号:404
布图设计名称:HISYS eDSP332000
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:微型计算机         
布图设计权利人:上海汉芯半导体科技有限公司
布图设计权利人国籍/省市:上海                         
布图设计权利人地址:上海市剑川路468号
布图设计创作人:上海汉芯半导体科技有限公司
布图设计创作完成日:2003年08月28日

布图设计登记号:BS.045000174
布图设计申请日:2004年01月21日
公告日期:2004年04月29日
公告号:405
布图设计名称:IROI_2.5G_TRANSMITTER_03
布图设计类别:
      结构:其他               
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:东南大学
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省南京市四牌楼2号
布图设计创作人:东南大学
布图设计创作完成日:2003年05月15日

布图设计登记号:BS.045000182
布图设计申请日:2004年01月21日
公告日期:2004年04月29日
公告号:406
布图设计名称:IROI_2.5G_LDD_03
布图设计类别:
      结构:其他               
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:东南大学
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省南京市四牌楼2号
布图设计创作人:东南大学
布图设计创作完成日:2003年05月15日

布图设计登记号:BS.045000190
布图设计申请日:2004年01月21日
公告日期:2004年04月29日
公告号:407
布图设计名称:IROI_10G_DEC_03
布图设计类别:
      结构:其他               
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:东南大学
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省南京市四牌楼2号
布图设计创作人:东南大学
布图设计创作完成日:2003年03月10日

布图设计登记号:BS.045000204
布图设计申请日:2004年01月21日
公告日期:2004年04月29日
公告号:408
布图设计名称:IROI_2.5G_CDRC_03
布图设计类别:
      结构:其他               
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:东南大学
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省南京市四牌楼2号
布图设计创作人:东南大学
布图设计创作完成日:2003年05月10日

布图设计登记号:BS.045000212
布图设计申请日:2004年01月21日
公告日期:2004年04月29日
公告号:409
布图设计名称:IROI_1.25G_LIM_03
布图设计类别:
      结构:其他               
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:东南大学
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省南京市四牌楼2号
布图设计创作人:东南大学
布图设计创作完成日:2003年07月15日

布图设计登记号:BS.045000220
布图设计申请日:2004年01月18日
公告日期:2004年04月29日
公告号:410
布图设计名称:RS1001
布图设计类别:
      结构:Bipolar            
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:广州市广晟微电子有限公司
布图设计权利人国籍/省市:广州                         
布图设计权利人地址:广州市龙口东路342号天诚广场316室
布图设计创作人:广州市广晟微电子有限公司
布图设计创作完成日:2003年07月07日

布图设计登记号:BS.045000239
布图设计申请日:2004年01月18日
公告日期:2004年04月29日
公告号:411
布图设计名称:RS1002
布图设计类别:
      结构:Bipolar            
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:广州市广晟微电子有限公司
布图设计权利人国籍/省市:广州                         
布图设计权利人地址:广州市龙口东路342号天诚广场316室
布图设计创作人:广州市广晟微电子有限公司
布图设计创作完成日:2003年07月07日

布图设计登记号:BS.04500028X
布图设计申请日:2004年02月18日
公告日期:2004年04月29日
公告号:412
布图设计名称:HW2596
布图设计类别:
      结构:Bipolar            
      技术:其他               
      功能:线性               
布图设计权利人:华亚微电子(上海)有限公司
布图设计权利人国籍/省市:上海                         
布图设计权利人地址:上海市碧波路572弄116号8号楼
布图设计创作人:华亚微电子(上海)有限公司、陈华、陆鹏、孙海涛、张立峰
布图设计创作完成日:2002年06月30日
布图设计首次商业利用日:2003年12月25日

布图设计登记号:BS.045000298
布图设计申请日:2004年03月31日
公告日期:2004年04月29日
公告号:413
布图设计名称:AD9887A-R2
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:线性               
布图设计权利人:美国安那络公司
布图设计权利人国籍/省市:美国                         
布图设计权利人地址:美国马萨诸塞州诺沃德02062技术一路
布图设计创作人:美国安那络公司
布图设计创作完成日:2003年01月20日
布图设计首次商业利用日:2003年05月03日

布图设计登记号:BS.045000301
布图设计申请日:2004年02月23日
公告日期:2004年04月29日
公告号:414
布图设计名称:R1114
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:线性               
布图设计权利人:株式会社理光
布图设计权利人国籍/省市:日本                         
布图设计权利人地址:日本  东京都
布图设计创作人:林克广
布图设计创作完成日:2002年07月17日
布图设计首次商业利用日:2002年07月17日

布图设计登记号:BS.04500031X
布图设计申请日:2004年02月23日
公告日期:2004年04月29日
公告号:415
布图设计名称:R3132
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:线性               
布图设计权利人:株式会社理光
布图设计权利人国籍/省市:日本                         
布图设计权利人地址:日本东京都
布图设计创作人:林克广
布图设计创作完成日:2002年07月17日
布图设计首次商业利用日:2002年07月17日

布图设计登记号:BS.045000328
布图设计申请日:2004年02月23日
公告日期:2004年04月29日
公告号:416
布图设计名称:R1211系列
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:株式会社理光
布图设计权利人国籍/省市:日本                         
布图设计权利人地址:日本东京都
布图设计创作人:阿部浩久
布图设计创作完成日:2002年06月21日
布图设计首次商业利用日:2002年06月21日

布图设计登记号:BS.045000336
布图设计申请日:2004年02月23日
公告日期:2004年04月29日
公告号:417
布图设计名称:R5426
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:线性               
布图设计权利人:株式会社理光
布图设计权利人国籍/省市:日本                         
布图设计权利人地址:日本  东京都
布图设计创作人:藤原明彦
布图设计创作完成日:2002年04月10日
布图设计首次商业利用日:2002年04月10日

布图设计登记号:BS.045000344
布图设计申请日:2004年02月22日
公告日期:2004年04月29日
公告号:418
布图设计名称:JCTM22411
布图设计类别:
      结构:其他               
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:吉林北方彩晶数码电子有限公司
布图设计权利人国籍/省市:吉林                         
布图设计权利人地址:吉林省长春市东南湖大路38号
布图设计创作人:吉林北方彩晶数码电子有限公司、郭晓东、邵喜斌、田德厚、宋颖、李卫东、张艳、李少华、汪梅林、白宇、孙保兴
布图设计创作完成日:2003年11月18日

布图设计登记号:BS.045000352
布图设计申请日:2004年02月19日
公告日期:2004年04月29日
公告号:419
布图设计名称:SP2038P六通道音量控制电路
布图设计类别:
      结构:Bipolar            
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:无锡硅科动力技术有限公司
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省无锡市蠡园经济开发区A2幢6楼
布图设计创作人:贺洁、朱丽霞、吴建国
布图设计创作完成日:2003年09月03日

布图设计登记号:BS.045000379
布图设计申请日:2004年02月17日
公告日期:2004年04月29日
公告号:420
布图设计名称:CS8001
布图设计类别:
      结构:Bi-MOS             
      技术:其他               
      功能:其他               
布图设计权利人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计权利人国籍/省市:福建                         
布图设计权利人地址:厦门市金榜路61号凯旋广场1号楼8H
布图设计创作人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计创作完成日:2003年09月30日
布图设计首次商业利用日:2004年01月06日

布图设计登记号:BS.045000387
布图设计申请日:2004年02月17日
公告日期:2004年04月29日
公告号:421
布图设计名称:CS6001
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:线性               
布图设计权利人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计权利人国籍/省市:福建                         
布图设计权利人地址:厦门市金榜路61号凯旋广场1号楼8H
布图设计创作人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计创作完成日:2003年07月30日
布图设计首次商业利用日:2004年12月30日

布图设计登记号:BS.045000395
布图设计申请日:2004年02月17日
公告日期:2004年04月29日
公告号:422
布图设计名称:CS5001
布图设计类别:
      结构:其他               
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计权利人国籍/省市:福建                         
布图设计权利人地址:厦门市金榜路61号凯旋广场1号楼8H
布图设计创作人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计创作完成日:2003年10月26日
布图设计首次商业利用日:2004年02月06日

布图设计登记号:BS.045000409
布图设计申请日:2004年02月17日
公告日期:2004年04月29日
公告号:423
布图设计名称:CS00301
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:逻辑               
布图设计权利人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计权利人国籍/省市:福建                         
布图设计权利人地址:厦门市金榜路61号凯旋广场1号楼8H
布图设计创作人:厦门市芯阳科技有限公司
布图设计创作完成日:2003年10月16日
布图设计首次商业利用日:2003年12月18日

布图设计登记号:BS.045000441
布图设计申请日:2004年02月27日
公告日期:2004年04月29日
公告号:424
布图设计名称:DF838A型单反照相机测光电路
布图设计类别:
      结构:Bi-MOS             
      技术:PMOS               
      功能:线性               
布图设计权利人:朱月林
布图设计权利人国籍/省市:江苏                         
布图设计权利人地址:江苏省无锡市蠡园经济开发区A6幢6楼圆成电子公司
布图设计创作人:朱月林
布图设计创作完成日:2003年05月01日

布图设计登记号:BS.04500045X
布图设计申请日:2004年03月19日
公告日期:2004年04月29日
公告号:425
布图设计名称:VC0918
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:北京中星微电子有限公司
布图设计权利人国籍/省市:北京                         
布图设计权利人地址:北京市中关村南大街3号海淀科技大厦5层
布图设计创作人:北京中星微电子有限公司
布图设计创作完成日:2003年07月01日

布图设计登记号:BS.045000468
布图设计申请日:2004年03月19日
公告日期:2004年04月29日
公告号:426
布图设计名称:VC0928
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:北京中星微电子有限公司
布图设计权利人国籍/省市:北京                         
布图设计权利人地址:北京市中关村南大街3号海淀科技大厦5层
布图设计创作人:北京中星微电子有限公司
布图设计创作完成日:2003年07月01日

布图设计登记号:BS.045000476
布图设计申请日:2004年03月19日
公告日期:2004年04月29日
公告号:427
布图设计名称:基于0.35um 工艺的高速高精度数模转换器设计版图
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:中国科学院半导体研究所
布图设计权利人国籍/省市:北京                         
布图设计权利人地址:北京市海淀区清华东路甲35号
布图设计创作人:耿学阳、朱荣华、石寅
布图设计创作完成日:2002年12月20日

布图设计登记号:BS.045000484
布图设计申请日:2004年03月19日
公告日期:2004年04月29日
公告号:428
布图设计名称:基于0.6um工艺的高速高精度数模转换器设计版图
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:中国科学院半导体研究所
布图设计权利人国籍/省市:北京                         
布图设计权利人地址:北京市海淀区清华东路甲35号
布图设计创作人:石寅、朱荣华、于雪峰
布图设计创作完成日:2002年12月20日

布图设计登记号:BS.045000492
布图设计申请日:2004年03月19日
公告日期:2004年04月29日
公告号:429
布图设计名称:基于0.35um工艺的模数(AD)转换器设计版图
布图设计类别:
      结构:MOS                
      技术:CMOS               
      功能:其他               
布图设计权利人:中国科学院半导体研究所
布图设计权利人国籍/省市:北京                         
布图设计权利人地址:北京市海淀区清华东路甲35号
布图设计创作人:王磊、朱荣华、石寅
布图设计创作完成日:2002年12月20日

布图设计登记号:BS.045000565
布图设计申请日:2004年03月29日
公告日期:2004年04月29日
公告号:430
布图设计名称:TA2154AFN
布图设计类别:
      结构:Bipolar            
      技术:IIL                
      功能:线性               
布图设计权利人:株式会社东芝
布图设计权利人国籍/省市:日本                         
布图设计权利人地址:日本东京都
布图设计创作人:株式会社东芝
布图设计创作完成日:2002年08月20日
布图设计首次商业利用日:2002年12月03日