郭禾 中国人民大学知识产权学院
我国《集成电路布图设计保护条例》颁布已经25年。在过去的四分之一世纪里，集成电路技术突飞猛进，集成度与基础密度均迅速提高，尤其是EDA工具的普及，致使原来的保护规则在事实上已经不能很好地满足集成电路技术发展的需求。而且，《条例》实施过程中也出现了权利保护范围不易界定、侵权行为规制不够有力等问题。因此，在总结实践经验的基础上结合技术进步等情况，对《条例》加以修订是必要的。
客观地讲，世界各国关于集成电路布图设计保护的制度都是在半导体集成电路技术的基础上发展起来的。如今，光子集成器件、量子芯片技术发展迅猛，在一些领域光电结合的芯片已经得到广泛应用。因此，此次《条例》修订在与“集成电路”定义有关的条文表述上删除了“半导体集成电路”的字样，明确将集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计纳入《条例》保护范围。修订前的《条例》将保护范围明确限定于半导体集成电路，直接反映出三十多年前立法者面对当时集成电路这样一个发展中的新事物抱有相对保守的态度。这一方面是受当时全球集成电路技术整体发展路线的局限，另一方面也是为了适应当时我国集成电路产业的发展水平。此次《条例》修订在与“集成电路”定义有关的条文表述上删除了“半导体集成电路”的字样，表面上看无关大局，因为目前世界上各类单片集成电路仍然需要以半导体材料作为基片，但在修法程序专门删除“半导体集成电路”字样的意义，绝不仅仅是立法技术层面上的冗余割舍，更为重要的是彰显了今日中国在知识产权立法上的态度，即我们已经不再是知识产权制度上的保守主义者，激励创新、着眼未来、以开放的态度拥抱技术创新，已经成为中国在知识产权保护上的底色。
二十多年来，在《条例》实施过程中，我国行政、司法等部门在集成电路布图设计保护方面都已积累了大量的经验。此次修订中，专门针对登记行为及登记程序中的相关问题进行了较大幅度的调整。修订后的《条例》在第23条和第24条中分别专门增加了：“申请人提交的复制件或者图样应当包含布图设计的必要信息，能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分”，以及“独创性声明应当指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能”的规定。这些修改不仅仅弥补了修订前的《条例》只要求提交布图设计复制件或图样，而未对提交复制件或图样的法律意义以及为实现该意义应当具备的具体要求作出明确规定的不足；更为重要的是有助于明确权利人所要求保护的具体范围，即申请人应当直接指出布图设计中最具商业价值的独创性部分。这些修改使布图设计登记行为在法律上能够真正起到存证的作用。换言之，在发生侵权纠纷时能够较为便捷地进行侵权判断。这无论对于裁判者，还是诉讼当事人双方都是有益的。因为这不仅有利于把握争议焦点，同时可以大幅度降低纠纷解决成本。否则，即使在现有的集成度条件下，比较两个芯片中是否存在复制布图设计，尤其是复制部分布图设计的情形也已经非常困难。当然，修订后的《条例》第34条还规定：“受保护的布图设计以登记的布图设计的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性”。该条款虽然在形式上类似我国《专利法》第64条“发明或者实用新型专利权的保护范围以其权利要求的内容为准，说明书及附图可以用于解释权利要求的内容。外观设计专利权的保护范围以表示在图片或者照片中的该产品的外观设计为准，简要说明可以用于解释图片或者照片所表示的该产品的外观设计”。但如果仔细分析会发现在侵权判定上由于布图设计与专利法保护对象的差异，在布图设计侵权判断时既不能完全按照专利法中由技术特征组合而成的完整技术方案间的比较来进行，也不能彻底抛开技术只看图样。
此外，《条例》的此次修订还借鉴、吸收了二十多年来我国知识产权制度建设中各类可行的经验和有价值的做法。比如，引入诚实信用原则，使其贯穿布图设计的申请、权利行使全过程。又如，借鉴其他知识产权单行法，并落实《民法典》中关于惩罚性赔偿制度的规定，强化了对布图设计的保护力度。应当指出的是，此次修订优化了申请、审查程序，以及撤销登记、权利恢复、公众查阅等内容，都在立法技术层面上对布图设计的保护提供了更加完备的保障。
总体上讲，此次修订无疑在很大程度上提高了我国集成电路布图设计的保护水准，对加快知识产权强国建设和满足高质量发展需求具有重要的现实意义。